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Correlation between optical, morphological and compositional properties of Aluminum Nitride thin films by Pulsed Laser Deposition

Registro bibliográfico

  • Título: Correlation between optical, morphological and compositional properties of Aluminum Nitride thin films by Pulsed Laser Deposition
  • Autor: Pérez Taborda, Jaime Andrés; Vera Londoño, Liliana; Riascos, Henry
  • Publicación original: IEEE Sensors Journal; Vol. 16, No. 2, 2016
  • Descripción física: PDF
  • Nota general:
    • AlN thin films were grown in a N2 atmosphere onto a Si/Si3N4 substrate by pulsed laser ablation. We have varied the substrate temperature for the thin film growth, using X-ray Reflectometry (XRR) analysis, we have characterized the thickness and density of the thin layer and the interface roughness from the X-ray reflectivity profiles.
      Experimental data showed that the root-mean-square roughness was in the range of 0.3 nm. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was employed to characterize the chemical.
  • Notas de reproducción original: Digitalización realizada por la Biblioteca Virtual del Banco de la República (Colombia)
  • Notas:
    • Resumen: Pulsed laser deposition; Aluminium nitride; Sensors acustic wave
    • © Derechos reservados del autor
    • Colfuturo
  • Forma/género: texto
  • Idioma: inglés
  • Institución origen: Biblioteca Virtual del Banco de la República
  • Encabezamiento de materia:
Correlation between optical, morphological and compositional properties of Aluminum Nitride thin films by Pulsed Laser Deposition | Biblioteca Virtual Miguel de Cervantes Ampliar imagen

Digitalización realizada por la Biblioteca Virtual del Banco de la República (Colombia)

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